(주)네오바이오텍(대표 허영구·김인호, 이하 네오)이 지난 2012년 임플란트 주위염 치료 기구인 ‘i-brush’ 출시에 이어 최근 업그레이드 제품 ‘i-brush2’를 선보여 관심을 모으고 있다.

i-brush는 Peri implantitis를 처치할 수 있는 획기적인 제품으로 출시부터 호평을 받은 바 있다. i-brush는 임플란트 픽스처 표면의 염증을 직접 제거해 임플란트 표면을 새로운 Rough Surface로 만들어 GBR 후 Osseointegration이 될 수 있도록 했다. 팁 부분이 Brush 형태로 되어 있고 1회용으로 교차 감염도 예방하는 제품이다.

네오는 i-Brush2를 통해 기존 제품의 단점을 개선했다. 기존 i-brush가 Brush 형태라면 i-brush2는 L자 형태로 변경된 것. 

i-Brush2의 주요 특징은 기존 i-brush 보다 내구성이 높아 여러 개의 임플란트를 클렌징해도 마모가 적고, 팁 모양이 임플란트 thread에 잘 맞고 날카롭게 디자인돼 있어 임플란트 사이의 물질을 효과적으로 제거할 수 있다. 또한 팁 모양이 thread 표면에 접촉해 클렌징할 수 있고, 팁 끝이 가늘어 Non surgery 방법으로 시술하기에 용이하다.

제품 사용법은 비치은절개 치료법과 치은절개치료법 2가지 방법으로 사용이 가능하다. 첫 번째 비치은절개 치료법은 임플란트 주위 골손실량이 수직적으로 2㎜ 이내인 경우나, 2㎜ 이상인 경우라도 치은절개치료에 앞서 염증을 감소시키고자 할 때 사용할 수 있다.

우선 시술부위에 국소마취를 시행하고 Explorer, Curett 또는 Periotome으로 임플란트와 치은을 분리한다. 다음은 iBrush2를 low speed 1:1 컨트라앵글에 연결한 후 2,000~5,000rpm의 속도로 식염수 주수 하에 임플란트 주변을 닦아낸다. 이때 임플란트 나사산 1~2개 정도가 노출된 경우 완전히 닦아내는데는 2~3분 정도 소요된다.

i-Brush2의 tip을 치은연하로 집어넣고 2,000~5,000rpm으로 회전시키며 임플란트 표면을 따라 시계방향으로 천천히 진행하면서 핸드피스를 천천히 상하 좌우로 움직이며 닦아낸다. i-Brush2로 처리된 임플란트 표면의 잔여세균의 제거는 0.2% 클로로헥시딘 등 화학적 소독제로 씻어 내거나 레이저 조사 등 부가적인 방법을 적용할 수 있다. 치은연하부는 식염수로 깨끗이 세척한다.

두 번째 치은절개 치료법은 임플란트 주변 수직적 골손실이 2㎜ 이상인 경우 시행하며, 시술부위에 국소마취를 시행한 후 가능하면 보철물 및 어버트먼트를 제거한다.

절개 및 개방한 후 염증 연조직은 제거한 후 2,000~1만rpm으로 회전시키며 임플란트 표면을 따라 시계방향으로 천천히 진행하면서 핸드피스를 천천히 상하 좌우로 움직이며 닦아낸다. 이때 임플란트 표면의 세척 정도를 육안으로 확인해 필요한 만큼 세척을 시행한다.

네오 관계자는 “임플란트 주위염에 대한 개원가의 관심이 많이 증가하고 있는 상황에서 네오는 다양한 처치, 예방 기구를 개발하는데 지속적인 투자를 아끼지 않고 있다”고 전했다.

신종학 기자 sjh@sda.or.kr