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[HOT PRODUCT] 메가젠임플란트 'Plasma X'

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‘Plasma X’로 임플란트 표면처리 새 패러다임 제시 
메가젠, “Xpeed Active 표면으로 임플란트 혁신” 강조

[치과신문_신종학 기자 sjh@sda.or.kr] 메가젠임플란트(대표 박광범·이하 메가젠)가 지난해 출시한 플라즈마 임플란트 표면 처리기 ‘Plasma X(플라즈마 엑스)’에 대한 임플란트 임상의들의 관심이 높다. Plasma X는 임플란트 표면을 플라즈마로 활성화해 Xpeed 표면을 Xpeed Active(엑스피드 엑티브)로 만들어 임플란트 골융합을 더욱 증대시킨다고 메가젠 측은 설명했다.

 

 

우수한 친혈성, 혈액공급 활성화 극대화
메가젠은 임플란트 표면 S-L-A에 칼슘이온을 결합해 골융합 성능을 증진한 표면처리기술인 ‘Xpeed’에 대한 특허를 보유하고 있다.

 

일반적으로 임플란트 표면에 칼슘 이온을 코팅하는 경우는 있지만, 결합기술로 골융합 성능을 향상한 것은 메가젠이 유일하다는 것. 이 표면 처리를 통해 잔존 산의 위험성을 낮추고, 조골세포 증식력이 2배 증가하며, 단백질 흡착성도 향상시킬 수 있다는 설명이다.  

 

메가젠 관계자는 “더욱이 Xpeed 표면 처리 기술에 플라즈마로 표면을 활성화하면 우수한 친혈성으로 혈관 형성 및 혈액 공급 활성도를 극대화할 수 있다. 기존 표면처리 대비 극대화된 표면 성능이 가능한 것”이라고 강조했다.

 

메가젠 측에 따르면, Plasma X를 이용해 Xpeed에 플라즈마 처리를 더한 ‘Xpeed Active’는 기존 S-L-A UV 처리 대비 탄소 잔존률이 11% 이하로 준다. 이로 인해 단백질 흡착률이 3배 증가하고, 조골 세포 증식력이 6배 증가하게 된다.

 

관계자는 “플라즈마를 처리하는 과정에서 공기 중에 있는 탄화수소가 임플란트 표면에 흡착돼 있는 것을 제거해 임플란트의 표면 친수성을 높여 골유착 성능을 강화하게 된다”며 “기존 UV 처리에 비해 플라즈마는 임플란트의 깊은 나사산 안쪽까지 처리가 되기 때문에 조골세포 증식력 개선을 통한 빠른 골융합 촉진이 가능하다”고 설명했다.

 

 

픽스처 오염 원천 차단, 편리성도 높여
Plasma X를 이용한 임플란트 플라즈마 처리 과정에서는 임플란트 픽스처를 꺼내지 않고 앰풀 그대로 표면처리를 할 수 있다. 따라서 개봉에 따른 오염 걱정 없이 표면처리가 가능하다.

 

플라즈마 처리는 저온진공처리로 열 손상이 없으며, 원클릭 로딩 방식을 사용해 편리한 사용이 가능하다. Plasma X는 최대 65초 만으로 동시에 임플란트 픽스처 3개까지 표면처리가 가능하며, 1개씩 독립적으로 사용할 수 있다.
한편, 메가젠은 200% 강한 강도로 GBR을 최소화하고 구치부 Ø4대 Fixture 식립으로 파절 스트레스를 최소화한 ‘블루 다이아몬드’ 임플란트를 출시해 다시 한 번 혁신적인 제품으로 주목을 받고 있다.

 

메가젠 측은 “전 세계 인류의 건강한 삶에 기여하는 ‘글로벌 토탈 헬스케어 이노베이터(Global Total Healthcare Innovator)’를 목표로, 단순히 제품을 판매하는 것이 아니라 전 세계 인류의 건강한 삶과 행복한 미소를 위해 글로벌 기업의 책임을 가지고 나아가고 있다”고 전했다.


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